Art in Embassies Exhibition : (Registro nro. 21899)
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000 -CABECERA | |
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campo de control de longitud fija | 01156nam a22002417a 4500 |
003 - IDENTIFICADOR DEL NÚMERO DE CONTROL | |
campo de control | OSt |
005 - FECHA Y HORA DE LA ÚLTIMA TRANSACCIÓN | |
campo de control | 20170516110238.0 |
008 - DATOS DE LONGITUD FIJA--INFORMACIÓN GENERAL | |
campo de control de longitud fija | 170516b xxu||||| |||| 00| 0 eng d |
040 ## - FUENTE DE LA CATALOGACIÓN | |
Centro/agencia transcriptor | USEK |
082 ## - NÚMERO DE LA CLASIFICACIÓN DECIMAL DEWEY | |
Número de edición | 21 |
Número de clasificación | 759.973 |
Número de documento/Ítem | Ar786e 2015 |
245 ## - MENCIÓN DE TÍTULO | |
Título | Art in Embassies Exhibition : |
Resto del título | United States Embassy Santiago / |
Mención de responsabilidad, etc. | Art in E,bassies. |
250 ## - MENCIÓN DE EDICIÓN | |
Mención de edición | 1a. ed. |
260 ## - PUBLICACIÓN, DISTRIBUCIÓN, ETC. (PIE DE IMPRENTA) | |
Lugar de publicación, distribución, etc. | [Chile] : |
Nombre del editor, distribuidor, etc. | Programa Arte en las Embajadas, |
Fecha de publicación, distribución, etc. | 2015. |
300 ## - DESCRIPCIÓN FÍSICA | |
Extensión | 32 p. |
Otras características físicas | fotos col. |
500 ## - NOTA GENERAL | |
Nota general | Título de la cubierta. |
520 ## - SUMARIO, ETC. | |
Sumario, etc. | Las exposiciones de Arte en las Embajadas permiten que ciudadanos extranjeros, muchos de los cuales tal vez nunca viajen a los estados Unidos, puedan experimentar personalmente la profundidad y amplitud del patrimonio y valores artísticos, dejando una "huella en lugares donde puede que no se de otra oportunidad para poder apreciar el arte estadounidense". |
546 ## - NOTA DE LENGUA/LENGUAJE | |
Nota de lengua/lenguaje | Español e Inglés. |
590 ## - NOTA LOCAL (RLIN) | |
Nota local | SAHARD-COM. |
650 #0 - PUNTO DE ACCESO ADICIONAL DE MATERIA--TÉRMINO DE MATERIA | |
9 (RLIN) | 2026 |
Término de materia o nombre geográfico como elemento inicial | PINTURA ESTADOUNIDENSE |
Subdivisión de forma | EXPOSICIONES. |
Subdivisión geográfica | CHILE |
-- | SANTIAGO |
650 #0 - PUNTO DE ACCESO ADICIONAL DE MATERIA--TÉRMINO DE MATERIA | |
9 (RLIN) | 2027 |
Término de materia o nombre geográfico como elemento inicial | ESCULTURA CHILENA |
Subdivisión de forma | EXPOSICIONES. |
Subdivisión geográfica | SANTIAGO |
710 ## - PUNTO DE ACCESO ADICIONAL--NOMBRE DE ENTIDAD CORPORATIVA | |
9 (RLIN) | 2028 |
Nombre de entidad corporativa o nombre de jurisdicción como elemento de entrada | Programa Arte en las Embajadas (Estados Unidos). |
942 ## - ELEMENTOS DE PUNTO DE ACCESO ADICIONAL (KOHA) | |
Fuente del sistema de clasificación o colocación | Dewey Decimal Classification |
Tipo de ítem Koha | Libro Colección General |
Estado de retiro | Estado de pérdida | Fuente del sistema de clasificación o colocación | Estado dañado | No para préstamo | Localización permanente | Ubicación/localización actual | Fecha de adquisición | Fuente de adquisición | Signatura topográfica completa | Código de barras | Fecha visto por última vez | Número de copia | Precio válido a partir de | Tipo de ítem Koha |
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Dewey Decimal Classification | Humanidades nivel 2 | Humanidades nivel 2 | 16/05/2017 | Do | 759.973 Ar786e 2015 1a.ed. | 12609 | 09/04/2024 | c.1 | 16/05/2017 | Libro Colección sala | ||||
Dewey Decimal Classification | Humanidades nivel 2 | Humanidades nivel 2 | 16/05/2017 | Do | 759.973 Ar786e 2015 1a.ed. | 12610 | 09/04/2024 | c.2 | 16/05/2017 | Libro Colección General |